线性阳极层离子源

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线性阳极层离子源是一种具有闭合电子迁移和发射沟道的冷阴极离子源，其主要组成部分包括磁路、阴极、阳极、布气机构和驱动电源等部分。其中离子发射沟道和阳极被磁路所包围。放电沟道内具有很强的磁场，将电子约束在其中，在正交的电场和磁场的作用下，电子在沟道内进行闭环迁移并形成电子流。闭环迁移的电子与气体发生碰撞时气体电离为离子和电子。当直流正电位施加在阳极上时，阳极表面形成电场，在此电场作用下，离子被加速发射出放电沟道形成离子束，离子束对基片进行轰击或刻蚀。

1. 离子源特点

1) 线性阳极层离子源产生的低能量、大束流的离子束可以有效去除基片表面的有机污染物和氧化层，增加薄膜的附着力，同时避免对基片轰击时造成损伤（如平板显示器镀膜、柔性基材镀膜）。

2) 由于阳极膜离子源无需灯丝、空心阴极等电子中和器而且水冷完全，所以其对镀膜环境的温度改变很小，这个特性对温度敏感基片的镀膜非常有利。同样理由，没有电子中和器使其可以长时间免维护工作。

3) 线性阳极层离子源的结构和材料组成使得其可以完全适应绝大部分反应气体，如氮气、氧气和甲烷等。