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RF-CCP(电容耦合)射频离子源

浏览: 分类:薄膜制备技术

CCP等离子体源的工作方式是由接地的放电室和引入的驱动电极作为耦合元件。当电源接通后, 在放电室和驱动电极之间产生高频电场, 自由电子在此作用下做上下往复运动,并激发放电,产生等离子体。

  

1. CCP离子源主要特点:

1) 采用电容耦合, 能量高,离子能量可精确控制在20-2000eV,离子电流密度可高达6mA/cm2;

2) 无石英部件,无颗粒及工艺污染,可长时间运行使用;

3) 可以使用多种反应气体,并可使用混合气体;

4) 中性平行束流,基材无电荷积累;

5) 离子源尺寸可扩展大面积, 高沉积速率且抗真空敏感性强。

2. CCP主要应用领域:

1) 离子束刻蚀;

2) PECVD沉积;

3) 离子束溅射;

4) 离子束清洁;

5) 离子束辅助沉积。

 


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